咨詢熱線
15821984229
15821984229
追求合作共贏
Win win for you and me售前售中售后完整的服務(wù)體系
誠信經(jīng)營質(zhì)量保障價(jià)格合理服務(wù)完善
當(dāng)前位置：首頁 > 產(chǎn)品展示 > 儀器儀表 > 離子源 > NGI3000美國 LK-Technologies 離子源 真空
簡要描述：美國 LK-Technologies 離子源 真空 NGI3000唐：I582I984229
產(chǎn)品型號(hào)：NGI3000廠商性質(zhì)：代理商更新時(shí)間：2024-12-13訪 問 量：626詳細(xì)介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,航空航天,電氣,綜合 |
|---|
美國 LK-Technologies 離子源 真空 NGI3000
美國 LK-Technologies 離子源 真空 NGI3000
LK-Technologies強(qiáng)大，流行的離子源設(shè)計(jì)用于通過離子濺射清潔表面，光束能量高達(dá)3 keV，典型離子電流高達(dá)30μA。該噴槍采用了一種新穎的氣體噴射系統(tǒng)，該系統(tǒng)允許在典型的1×10 -6托的腔室壓力下進(jìn)行濺射。
氣體注入系統(tǒng)避免了昂貴的差動(dòng)泵送設(shè)備
低室壓下的惰性氣體濺射
寬離子束確保均勻?yàn)R射
與普通濺射清潔和ISS應(yīng)用兼容
連續(xù)可調(diào)諧的電壓從200 V到3 kV
帶USB或以太網(wǎng)接口的數(shù)字控制電子設(shè)備
AES EA5000MCA EELS ELS ELS5000 High Resolution Electron Energy Loss Spectroscopy HREELS LEED LEED系統(tǒng) LK1000M LK2000 lktech LK technologies LK Technology MINICMA NGI3000 RVL2000光譜儀 低能電子衍射 低能電子衍射儀 低能電子衍射系統(tǒng) 俄歇電子 俄歇電子能譜AES 俄歇電子能譜儀 多探針分析系統(tǒng) 熱解吸光譜 特高壓系統(tǒng) 特高壓表面科學(xué)系統(tǒng) 電子發(fā)生器 電子槍 電子源 電子碰撞實(shí)驗(yàn) 電子能譜儀 電子能量損失譜 電子能量損失譜儀 離子泵 離子源 精密UHV室 精密樣品操縱 能量損失譜儀 表面結(jié)構(gòu)與表面分析 超高真孔表面分析系統(tǒng) 超高真空表面分析系統(tǒng) 輔助泵 高分辨電子能量損失譜 高分辨電子能量損失譜儀
產(chǎn)品咨詢
